Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази 2994

Паперова книга
2994
Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази - фото 1
150
12 людей

Все про “Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази”

Від видавця

Проведена класифікація процесів і обладнання хімічного осадження з газової фази (ХОГФ), які використовуються в технології виробництва інтегральних мікросхем (ІМС), і показано тенденції їх розвитку. Наведено основні характеристики елементів мікроструктур ІМС, одержуваних у процесах ХОГФ, а також технологічні характеристики самих процесів і використовуваних реагентів. Розглянуто параметри обладнання для реалізації процесів ХОГФ та проведено аналіз його можливостей, достоїнств і недоліків при осадженні функціональних шарів мікросхем. Наведено основні електрофізичні характеристики загрожених плівок. Для інженерів-технологів і наукових працівників, що використовують в своїй практичній роботі хімічне осадження плівок з газової фази. Книга може бути корисною також студентам старших курсів, аспірантам і викладачам вузів.

Анотація

Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази

Рецензії

0

Всі характеристики

Товар входить до категорії

  • Самовивіз з відділень поштових операторів від 45 ₴ - 80 ₴
  • Доставка поштовими сервісами - тарифи перевізника
Схожі товари
Валидация на системном уровне. Высоуровневое моделирование и управление тестированием
189639
Чэнь М.Цинь К.Ку Х.-М.Мишра П.
400 ₴
Наноструктурні покриття.
116099
Под ред. А. Кавалейро, Д. де Хоссона
1'300 ₴