Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази 2994
Паперова книга
2994
-
ISBN5-94836-039-3
-
Видавництво
-
Автор
-
Серія
-
Рік2006
-
МоваРосійська
-
ІлюстраціїЧорно-білі, Схеми
150 ₴
12 людей
Все про “Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази”
Від видавця
Проведена класифікація процесів і обладнання хімічного осадження з газової фази (ХОГФ), які використовуються в технології виробництва інтегральних мікросхем (ІМС), і показано тенденції їх розвитку. Наведено основні характеристики елементів мікроструктур ІМС, одержуваних у процесах ХОГФ, а також технологічні характеристики самих процесів і використовуваних реагентів. Розглянуто параметри обладнання для реалізації процесів ХОГФ та проведено аналіз його можливостей, достоїнств і недоліків при осадженні функціональних шарів мікросхем. Наведено основні електрофізичні характеристики загрожених плівок. Для інженерів-технологів і наукових працівників, що використовують в своїй практичній роботі хімічне осадження плівок з газової фази. Книга може бути корисною також студентам старших курсів, аспірантам і викладачам вузів.
Анотація
Технології мікроелектроніки. Хімічне осадження з газової фази
Всі характеристики
- Видавництво
- Автор
- Серія
- Категорія
- Рік2006
- Сторінок192
- Формат145х215 мм
- ОбкладинкаТверда
- ОформленняЛакування
- Тип паперуОфсетний
- МоваРосійська
- ІлюстраціїЧорно-біліСхеми
Товар входить до категорії
-
Самовивіз з відділень поштових операторів від
45 ₴ -80 ₴ -
Доставка поштовими сервісами - тарифи перевізника
Рецензії